L9499
クリーンなイオン生成方式「Photoionization（光電離）」を利用した光イオン化システム「Photoionizer」。従来のコロナ放電方式とは違い、塵・電磁ノイズ・オゾンの発生しないクリーンな除電を実現。さらに、イオン生成バランスが均等であるため逆帯電を起こす事がありません。帯電体近傍の分子をイオン化させて除電するため除電効率が極めて高く、従来困難であった高速移動体や粉体等の除電も瞬時に行う事ができます。静電気除去の抱える問題を「対象物」・「スピード」・「環境」・「信頼性」の点で解決した静電気除去システムです。 半導体・液晶製造工程では、静電気による製品への異物の混入や付着、また素子の絶縁破壊が問題になっています。これらの製造工程では有機溶剤が使用される事もあり、防爆型の要望が従来より数多くありました。防爆型フォトイオナイザは、国内 防爆規格（検定：社団法人 産業**技術協会）に適合するように開発致しました。従来のフォトイオナイザ同様電極からの発塵やオゾンの発生等の問題がなく、クリーンな除電を実現しています。現在、医療業界などからも注目を受けており、実際に使用されているユーザーも増えています。
フィルムの印刷工程
塗布／現象後の薬液洗浄
本装置の適用範囲：Exd II BT5
温度等級
T1
T2
T3
T4
T5
T6
発火温度
450℃超
300℃超
200℃超
135℃超
100℃超
85℃超
A
アンモニア一酸化炭素エタントルエンプロパンメタン
エタノール2-ブタノールブタンアセチルアセトン塩化ビニル
ヘキサンガソリンケロシンペンタン
アセトアルデヒドトリメチルアミン
亜硝酸エチル
B
シアン化水素アクリロニトリル石炭ガス
フランアクリル酸エチルエチレン
ジメチルエーテルシクロヘキサンイソプレン
C
水素
アセチレン
二硫化炭素
硝酸エチル
※A・B・Cは爆発性ガスの分類を表す。
微弱X線遮蔽率
除電範囲と除電時間
注1 塩化ビニル板以外の樹脂(アクリルなど)は透過性が高いので遮蔽材としては不適当です。注2 塩化ビニル板は、極端に近距離(10cm以内)で数ヶ月直接照射し続けた場合に、表面が黒ずむ事がありますが問題はありません。鉄板やアルミ板などの金属板では変質の問題はありません。
製品の特長
●着火危険性のない微弱Ｘ線方式●微弱Ｘ線の照射された全ての範囲でイオンが常時生成される●帯電体近傍で生成されたイオンが除電に寄与するため送風が不要●電極の清掃が不要●塵・電磁ノイズの発生「0」
主な用途
●半導体製造工程 ●ハードディスクドライブ製造工程 ●フラットパネルディスプレイ製造工程●電子部品実装工程 ●産業用ロボットを使用している工程 ●医療設備 ●粉体製造工程
L9499 基本仕様
除電方式
微弱X線照射方式
イオン発生源(種類)
微弱X線管
管電圧9.5kV管電流150μAX線照射角90度
電源電圧(AC)
100V～240V(50Hz/60Hz)
消費電力
33W Max (ヘッド部3台接続時)
イオン発生源 保証寿命
1000時間
質量
ヘッド部3.2kgコントローラ部6.3kg
動作周囲温度
0℃～+40℃
保存周囲温度
-10℃～+60℃
**機能
外部接点によるインターロック機構X線出射に連動した信号出力用機構
外部制御
モーメント(瞬時)動作、オルタネート(連続)動作切り替え可能
外部信号出力
主電源ON、イオン生成ON、インターロック有効、イオン生成源寿命
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